前言:铜靶材,金属铜靶材,高纯铜靶材,科研用铜靶材,磁控溅射铜靶材,
郑科探KT-Z1650PVD射频溅射用铜靶材溅射仪器-宣传视频
KT-Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
企业新闻 郑科探KT-Z1650PVD射频溅射用铜靶材溅射仪器发布时间:2024-03-06 浏览次数:7 返回列表
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KT-Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能。通过定时调节溅射功率及薄膜沉积功率,可对大部分金属进行均匀物理沉积,真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染,样品台可旋转以获得更均匀的薄膜,可制备各种金属薄膜和有机物薄膜。
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